半導体ウェーハ製造において、プラズマエッチング、薄膜成膜(CVD/PVD)、イオン注入などのプロセスは、チャンバー部品に極めて高い要求を課します。エンジニアはしばしばジレンマに直面します。それは、複雑な形状への加工がほぼ不可能な高性能セラミックスを選択するか、熱抵抗の低い加工しやすいプラスチックを選択するかです。マコール® 加工可能ガラスセラミックス「焼結フリー」の性質により、半導体装置における複雑な幾何学的絶縁体に最適なバランスを提供します。
半導体チャンバー内の絶縁サポート、イオン源ベース、シールドは、しばしば多数のねじ穴、深いスロット、薄壁構造を備えています。
焼結リスク:従来型アルミナセラミックスは、グリーンボディ成形後に高温焼結(1600℃以上)を行う必要があります。このプロセスは、大きな収縮と反りを引き起こし、微細なねじなどの内部フィーチャーの精度を維持することが極めて困難になります。
焼結後の研削の壁:焼結歪みを修正するために、長時間のダイヤモンド研削が必要です。狭いスリットやマイクロ開口部を持つ部品の場合、研削工具がフィーチャーに届かないことが多く、エンジニアは設計上の妥協を余儀なくされます。
マコール® の主な利点は、「供給時の状態」が「最終性能」の状態であるという事実です。この材料は後加工焼成を必要としません、寸法変形の危険性を完全に排除します。
精密タップ加工とドリル加工:フッ素金雲母のマイクロ構造を活用することで、エンジニアはマコール® に直接H6公差のねじ穴を加工できます。これは従来型テクニカルセラミックスではほぼ不可能な偉業です。
薄壁の安定性:切削力が低く、後続の熱処理がないため、マコール® は破損することなく0.5 mmという細さの薄壁構造をサポートできます。
一貫性:加工公差は±0.013 mmで確実に保持され、高精度半導体装置の組み立て時に完璧なフィットを保証します。
半導体プロセスの高真空およびプラズマ環境において、マコール® の信頼性は特定の物理データによって裏付けられています。
ゼロ気孔率(0%):非アウトガス特性により、ウェーハを炭化水素や湿気による汚染から保護し、高純度真空の完全性を確保します。
絶縁破壊強度(45 kV/mm):高電圧フィールド下での電気アークを防ぎ、敏感な診断電子機器を保護します。
耐熱性:800℃での連続運転、およびエッチングまたは成膜中の熱サイクルに対する耐性があり、粒子を発生させません。
化学的純度:ホウケイ酸ガラスマトリックスをベースにしており、金属不純物レベルが極めて低く、クリーンルーム基準を満たしています。
半導体OEMメーカーにとって、マコール® は以下のシナリオで従来型セラミックスよりも優れた選択肢となります。
迅速なイテレーションフェーズ:チャンバー設計がまだ確定しておらず、絶縁体の形状に頻繁な変更が必要な場合。
高度に統合されたコンポーネント:センサーチャネル、冷却ループ、または複雑なねじ込みを統合する部品の場合。
小ロット特殊装置:大量成形コストに見合わない研究グレードの半導体プラットフォームの場合、焼結フリー加工は総調達コストを大幅に削減します。
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