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商品の詳細:
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| 次元（L*W*H）: | カスタマイズされる | とらわれのタイプ: | 、金属（焼結させる）、樹脂electroformed、およびガラス化される |
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| 適用: | 磨くスラリー | プロダクト: | 磨く研摩剤 |
| ハイライト: | コロイド無水ケイ酸の磨く研摩剤,Electroformedのラップおよび粉砕の研摩剤,Electroformedのコロイド無水ケイ酸の磨く研摩剤 |
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私達、半導体、LED、ガラス、プラスチックおよび他の金属を含むいろいろ適用でひき、重なり合い、そして磨くことのための製造業者の高い等級材料。私達の研摩プロダクトは私達の顧客の要求に応じ、質および一貫性の最高レベルを提供するように設計されている。
私達は磨く混合物を提供し、多くの異なったタイプの材料の必要な表面の終わりを提供するためにスラリーはとりわけ成長した。スラリーは特別な懸濁液の代理店および添加物と作り出され、異なった研摩のサイズと利用できる。
GLANZOXは特別な原料と液体で中断されるコロイド無水ケイ酸である。半導体ウエハーで、GLANZOXはナノメーターのレベルに近く完全に滑らかな表面を作り出す。
さらに、GLANZOXは磨くプロセスによって残すことができる金属の不純物を非常に減らす。
適用:ケイ素
研摩のタイプ:コロイド無水ケイ酸
COMPOLはリチウムtantalate （LiTaOのような磨く金属、製陶術および電子基質のために特に開発されるコロイド無水ケイ酸のスラリーである3）のリチウム ニオブ酸塩（LiNbO3）およびサファイア。優秀な粒子の均等性および分散によって、それは高い取り外し率および無傷性に磨くことを提供する。
適用:製陶術、サファイア、金属、リチウム ニオブ酸塩、リチウムTantalate
研摩のタイプ:コロイド無水ケイ酸
FZはultra-fineジルコニウムの酸化物粒子から成り、モリブデン、タングステン、クロム、チタニウム、ニッケルおよび合金のような特別な金属を磨くために最適である。堅いウレタンのパッドおよび磨くピッチと使用されたとき、FZは金属に深い、傷なしの光沢を作り出す。またすべての傷および隆起をレンズの表面から取除き、透過光で干渉を除去する光学レンズの最終的な磨くことのためにFZ-02を使用できる。
適用:ガラス、金属
研摩のタイプ:ジルコニア
CLEALITEはアルミニウム、ステンレス鋼およびチタニウムのようないろいろな種類の金属のミラーの終わりを作り出す磨くスラリーである。使用される10nm （Rmax）の表面の粗さの傷の自由な表面を提供するためにタイプによって特別な添加物は含まれている。CLEALITEはまた金属のために最終的な光沢として使用することができる。
適用:金属
研摩のタイプ:コロイド無水ケイ酸
INSECシリーズは化合物半導体材料の高精度ミラーの終わりを作り出す。INSECシリーズはまた導関連のGaAsおよびギャップ プロダクトのためのエッチングの代理店としてよく働く。
INSECプロダクトすべては微粒の形に来、使用の前に分解しなければならない。
適用:ガリウム砒素、ガリウム リン化物、リン化インジウム
研摩のタイプ:研摩の微粒
POLIPLAはプラスチック レンズのために特に開発される混合タイプの磨くスラリーである。この高純度のアルミナは優秀な磨く性能および良質の終了する表面を提供する約3.0から4.0のpHの特別な解決で均一に分散する。POLIPLAはタイプの広い範囲で利用できあなたの必要性に最適解を選ぶことを許可する。金属の腐食に応じて適用のために腐食そして泡立つことを防ぐために添加物を含んでいるタイプはまた利用できる。
適用:プラスチック レンズ
研摩のタイプ:アルミナ
私達は最も重大な適用の必要性に合うためにいろいろ重なり合う粉を提供する。私達の緩い研摩プロダクトがバッチにバッチから一貫していることを厳密な品質管理の標準および堅い粒子の配分は保障する。
GC （緑の炭化ケイ素）は2000° C.より大きい温度で電気炉の無水ケイ酸そしてコークスの反応によって作り出される粉を重ね合わせる非常に高純度の炭化ケイ素（SiC）である。このプロセスは次の質を作り出す:
生じるプロダクトに化学薬品によって影響されないし、分裂によって鋭角を発生できる優秀な重なり合い、磨く質がある。GCは多くの目的のためにこうしてうってつけである。
適用:水晶、亜鉄酸塩、金属、ケイ素、リチウム ニオブ酸塩、リチウムTantalate
研摩のタイプ:緑の炭化ケイ素
Cは一般にカーボランダムとして知られている粉を重ね合わせる黒い炭化ケイ素である。GCのように、Cは2000° C.より大きい温度の電気炉の無水ケイ酸そしてコークスの反応によって作り出される。これは次の質を作り出す:
Cは研摩の機械化のために優秀で、仕事表面の優秀なラップを作り出す。Cは精密ラップの磨く布およびペーパー、また精密グラインダーのための材料としてこうして理想的である。
適用:鋳鉄、黄銅、銅、アルミニウム、石、ガラス
研摩のタイプ:黒い炭化ケイ素
PWAは99.0%の純度の酸化アルミニウム（Al2O3）のplate-shaped水晶から成っている白いか焼されたアルミナの研摩粉である。
粒度分布は堅く制御され、非常に良い重ね合わせられた表面を作り出し広い応用範囲を許可する。
適用:ケイ素、水晶、ステンレス鋼、光学材料
研摩のタイプ:白いか焼されたAumina
WAは溶かされたアルミナを押しつぶし、均一サイズに粒子を分類することによって作り出される溶かされた白いアルミナの研摩粉である。生じる混合物に次の特徴がある:
これらの特徴はWAに高レベルに表面の磨くことのためのすばらしい選択をする。
適用:金属、水晶
研摩のタイプ:白い溶かされたアルミナ
Aは一般にArundumとして知られている最も広く知られていた研摩粉、である。Fujimiは2000° Cの温度で少なくとも90%純度の酸化アルミニウム（Al2O3）の鋼玉石の水晶を得るために電気炉のボーキサイトを溶かすことによってAを作り出す。
さらに、プロセスは研摩の粒子の靭性（粘着性）を高めるチタニウムの小さいパーセントの水晶を溶かす。その結果、AにすべてのFujimiの研摩粉の靭性の高度がある。Fujimiは非常に能率的な、非常に安定した研摩剤のための粒度の一貫した配分のためのAを製造する。
適用:柔らかい金属、ガラス、陰極線管
研摩のタイプ:溶かされたアルミナ
FOは半導体ウエハーの精密なラップのために特に設計されているアルミナ ベースの粉である。FOは磨かれる表面に傷を残さない特別な粒子の形および硬度がある。これらの同じ質はまたFOにレンズ、プリズムおよび他の光学ガラス製品のための優秀な重なり合う代理店を作る。
適用:ガリウム砒素、ガリウム リン化物、ケイ素、堅くされたガラス、水晶、光学ガラス
研摩のタイプ:アルミナ及びジルコニアのブレンド
その他の情報のための私達に連絡しなさい。
コンタクトパーソン: Daniel
電話番号: 18003718225
