セラミック・スプッティング・ターゲット インディウム・オキシド ターゲット

セラミックスパッタリングターゲット酸化インジウムターゲット

製品説明:
真空ホットプレス焼結を用いて製造された当社の様々なセラミックターゲットは、最先端技術と成熟した製造プロセスを特徴としています。これらの製品は、主に薄膜太陽エネルギー、フラットパネルディスプレイ、光学コーティング、半導体、および軍事用途に使用されています。

当社は、国内外のクライアントに高品質なターゲット製品とサービスを提供し続けるため、数多くの著名な大学やカレッジと連携し、新素材とプロセスの研究開発に専念しています。

酸化インジウムターゲット紹介:
Ln203フラットターゲットは、真空ホットプレス焼結プロセスを使用して製造されています。直径300mmまで製造可能で、厚さは顧客の要求に合わせてカスタマイズできます。

技術パラメータ:密度 5.5g/cm³、純度: 99.99-99.999%

品質管理: