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電子材料向け、狭い粒度分布とカスタマイズ可能な粒度を持つ高純度窒化アルミニウム粉末

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99.8%高純度アルミナ、高電気絶縁性、低誘電損失、フィラメント絶縁体PFG、デュアルMNT

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99.8% 高純度アルミナドーム、DPS メタルチャンバーのフォーカスリング

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電子材料向け、狭い粒度分布とカスタマイズ可能な粒度を持つ高純度窒化アルミニウム粉末

電子材料向け、狭い粒度分布とカスタマイズ可能な粒度を持つ高純度窒化アルミニウム粉末
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大画像 :  電子材料向け、狭い粒度分布とカスタマイズ可能な粒度を持つ高純度窒化アルミニウム粉末

商品の詳細:
起源の場所: 中国
ブランド名: ZG
証明: CE
モデル番号: MS
お支払配送条件:
最小注文数量: 1個
価格: 10USD/PC
パッケージの詳細: グローバル配送用の強力な木製の箱
受渡し時間: 5～8営業日
支払条件: L/C、D/A、T/T、D/P、ウェスタンユニオン
供給の能力: 1000個
連絡先

電子材料向け、狭い粒度分布とカスタマイズ可能な粒度を持つ高純度窒化アルミニウム粉末

説明
ハイライト:

高純度窒化アルミニウム粉末

,

狭い粒度分布AlN粉末

,

カスタマイズ可能な粒度AIN粉末

窒化アルミニウム粉末
電子材料用の高純度AlN粉末は、AIN基板の焼結に最適な材料です。焼結AIN基板は、超高熱伝導率、優れた電気絶縁性、およびシリコンウェーハなどの半導体材料に密接に適合する熱膨張特性を備えています。電子パッケージング業界で広く使用されている当社の窒化アルミニウム粉末は、炭素熱還元法を使用して製造されており、安定したプロセス制御と多様な原料へのアクセスを保証します。
主な利点
  • 卓越した高純度レベル
  • 狭い粒度分布
  • 基板鋳造、造粒粉末、充填粉末など、多様な用途
  • 特定のシナリオの要件を満たすためのカスタマイズ可能な粒子サイズ
技術仕様
パラメータ H-2 M-3
比表面積 ≥2.0 ≥2.0
平均粒径 ≤2.0 ≤2.0
O (wt%) ≤0.95 ≤0.95
C (ppm) ≤0.045 ≤0.050
Ca (ppm) ≤200 ≤200
Si (ppm) ≤50 ≤70
Fe (ppm) ≤30 ≤50
H-2グレード
電子材料向け、狭い粒度分布とカスタマイズ可能な粒度を持つ高純度窒化アルミニウム粉末 0
H-3グレード
電子材料向け、狭い粒度分布とカスタマイズ可能な粒度を持つ高純度窒化アルミニウム粉末 1

タグ:

F4ジルコニウムのアルミナZA25,

7.6g/cm3密度のアルミナの陶磁器の部品,

7.6g/Cm3密度の鋼鉄打撃および屑

連絡先の詳細
HENAN ZG INDUSTRIAL PRODUCTS CO.,LTD

コンタクトパーソン: Daniel

電話番号: 18003718225

ファックス: 86-0371-6572-0196

私達に直接お問い合わせを送信 (0 / 3000)

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