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物理的な蒸気沈殿（PVD）プロセスはLEDの破片の製造業、SIC PVDの皿で使用される

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物理的な蒸気沈殿（PVD）プロセスはLEDの破片の製造業、SIC PVDの皿で使用される

物理的な蒸気沈殿（PVD）プロセスはLEDの破片の製造業、SIC PVDの皿で使用される
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大画像 :  物理的な蒸気沈殿（PVD）プロセスはLEDの破片の製造業、SIC PVDの皿で使用される

商品の詳細:
起源の場所: 中国
ブランド名: ZG
証明: CE
モデル番号: MS
お支払配送条件:
最小注文数量: 1部分
価格: USD10/piece
パッケージの詳細: 全体的な船積みのための強い木箱
受渡し時間: 3仕事日
支払条件: L/C、D/A、D/P、T/T、ウェスタン・ユニオン、MoneyGram
供給の能力: 1ヶ月あたりの10000部分
連絡先

物理的な蒸気沈殿（PVD）プロセスはLEDの破片の製造業、SIC PVDの皿で使用される

説明
適用: 良い化学工業、製薬産業、環境保護工学 次元: 管束のブロックの最高の直径は200mmに達し高さは500mmである場合もある。
材料: 炭化ケイ素 色: 黒い
製品名: 炭化ケイ素の管束のブロック
ハイライト:

330mmの炭化ケイ素PVDの皿

,

300mmの炭化ケイ素PVDの皿

,

330mm SiC PVDの皿

 

SiC PVDの皿

 

 

炭化ケイ素PVDの皿は地殻均衡プロセスによって押すおよび高温の焼結形作られる。タブレットの溝のacupoints、位置および形の外の直径、厚さ、数およびサイズはまたユーザーの特定の条件を満たすユーザーの設計デッサンの条件に従って終了する。

 
典型的な適用
  • 物理的な蒸気沈殿（PVD）プロセスはLEDの破片の製造業で使用される。
 
特徴および利点
  • 高密度
  • 拡張のよい熱伝導性、低い係数および温度の均等性
  • 血しょう耐衝撃性
  • いろいろな種類の強い酸およびアルカリの化学試薬の腐食に対して抵抗力がある
  • 半導体の等級のクリーニングの後
 
指定230/300/330mm
物理的な蒸気沈殿（PVD）プロセスはLEDの破片の製造業、SIC PVDの皿で使用される 0

タグ:

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連絡先の詳細
HENAN ZG INDUSTRIAL PRODUCTS CO.,LTD

コンタクトパーソン: Daniel

電話番号: 18003718225

ファックス: 86-0371-6572-0196

私達に直接お問い合わせを送信 (0 / 3000)

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