セラミックスプッティングターゲット カドミウム硫化物 ターゲット材料

真空熱圧シンタリング法によって生産される様々なセラミック標的材料は,先進技術と成熟した生産プロセスが特徴です.これらの製品は主に以下に使用されています:

• 薄膜太陽電池
• エネルギーアプリケーション
• 平面ディスプレイ
• オプティカルコーティング
• 半導体
• 軍用用途

当社は,国内外で有名な大学と協力し,新しい材料とプロセスの研究と開発にコミットしています.私たちは,様々なハイテクソリューションのための高品質のターゲット材料製品とサービスを継続的に提供.

CdS平面標的材料は,真空熱圧シンタリングプロセスを用いて製造され,以下を生産することができる.

• 最大長さ: 300mm
• 最大幅: 300mm
• お客様の要求に応じてカスタム厚さ

CdS粉末を標的材料として生産する数十年の経験により,CdS標的は使用中に亀裂耐性やアーチなしを含む例外的な特性を提供します.

薄膜太陽光発電産業