セラミックスプッティングターゲット 亜鉛硫化物 ターゲット材料

ZnSフラットターゲット材料は、真空ホットプレス焼結プロセスを採用しており、製造可能です。最大直径は300mmで、厚さは顧客の要求に応じて加工されます。

• 密度：4.0g/cm³
• 純度：99.99% - 99.999%

以下に広く使用されています:

• 半導体チップ
• 端末太陽光発電
• フラットパネルディスプレイ
• 特殊コーティングおよびその他の産業

真空ホットプレス焼結法で製造された様々なセラミックターゲット材料は、高度な技術と成熟した製造プロセスを備えています。製品は主に以下の分野で使用されています:

• 薄膜太陽エネルギー
• フラットパネルディスプレイ
• 光学コーティング
• 半導体
• 軍事産業

当社は、国内外の多くの有名な大学と協力し、新材料とプロセスの研究開発に注力し、国内外のお客様に様々な高品質のターゲット材料製品とサービスを提供し続けています。