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商品の詳細:
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| ハイライト: | アクティブ・メタル・ブレズ・セラミック・パーツ,AMB 技術技術陶器,メタル・ブレージ・セラミック部品 |
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AMBテクノロジー(アクティブメタルブレージング)
AMB(アクティブメタルブレージング)は、厚膜金属化(127ミクロンから)の基板を作成するために世界で使用されている技術の1つです。
AMBテクノロジーでは、DBCテクノロジーの場合に重要な、銅のKTRとセラミック基板の不一致の問題に対する解決策が見つかっています。KTRの調整は、導電層の銅とセラミックの間に整合層を形成することによって達成され、熱サイクル条件下での内部応力の発生を防ぎ、接着下層としても機能します。仕上げコーティングが主金属化層に適用されます。
この技術の主な欠点は、整合層に熱伝導率が存在することであり、導電層からの熱除去を悪化させます。このため、熱伝導率が高いアルミニウムナイトライドベースのセラミックの使用が推奨されます。
また、中間接続部に気泡が形成され、放熱性が低下する可能性があります。これは、整合層を特殊なペーストの形で適用する場合に最も顕著です。
AMB法で得られた基板のユニークな特性により、H2環境での高温はんだ付けが可能になります。基板は、極端な熱サイクルおよびエネルギーサイクル耐性(オン/オフモードで15,000サイクル以上の電力サイクル、Δt=100℃、5,000サイクル以上の熱サイクル、Δt=200℃)を備えています。
| 特性 | ||||
| はんだ接合部の気泡の存在 | 接合面積の5%未満(気泡面積1つあたり)1%未満 | |||
| 銅厚*、μm | 100~800 | |||
| セラミック | AlN、Al2O3 | |||
| 接着力、N/mm2 | 15以上 | |||
| 銅厚
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解像度 | |||
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導体間距離、mm |
導体幅、mm |
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タイプ。 |
最小 |
タイプ。 |
最小 |
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0.127 |
0.30 |
0.25 |
0.30 |
0.25 |
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0.20 |
0.50 |
0.40 |
0.50 |
0.40 |
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0.25 |
0.60 |
0.50 |
0.60 |
0.50 |
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0.30 |
0.70 |
0.50 |
0.70 |
0.50 |
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0.40 |
0.80 |
0.60 |
0.80 |
0.60 |
コンタクトパーソン: Daniel
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ファックス: 86-0371-6572-0196